磁控溅射Cu的时候,基底温度大概有多少度?要是溅射铝呢?能不能在塑料上溅射铜呢?

来源：学生作业帮编辑：搜狗做题网作业帮分类：综合作业时间：2024/04/29 15:31:27

一般的磁控溅射基材都是不加温的,镀膜过程中,原子、原子团、分子沉积在基材上引起的温度升高一般不会太高,当然如果想附着力提高的话,提前预热基材倒是可以的.一般普通磁控溅射基材温度也就40-50℃.溅射材质关系不是太大,倒是溅射功率影响很大,调整溅射功率控制基材温度吧.塑料上镀膜一般没有问题,国内多家手机壳镀膜都在实现.主要就是需要提前对塑料基材进行去油、清洗等处理.
再问：影响基底温度的因素都有哪些？功率？偏压？基底与靶材的距离？
再答：主要是功率，强偏压影响较大，其他影响很小，基底与靶材距离应该波动范围不大所以影响也不大。微观来说，就是粒子沉积到基底上的动能，动能大基底温度就高，动能小基底温度就低。其实我不知道你具体想设计镀膜机还是想做什么，不过一般的磁控溅射都是低温溅射。没有太大的问题的。

磁控溅射Cu的时候,基底温度大概有多少度?要是溅射铝呢?能不能在塑料上溅射铜呢? 直流磁控溅射问题用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间真空磁控溅射ITO的最佳靶基距,硅靶中频反应溅射SIO2的最佳靶基距. 电镀铜时铜脱落,实验在玻璃片上先溅射一层铜,然后在电镀铜加厚,为什么会出现原本溅射的铜膜脱落,哪位工艺大师帮我分析一下：用于平板玻璃镀膜的溅射沉积真空工艺有那些? 真空镀膜蒸发溅射我是刚上手的镀膜工.做的是电子业的晶片镀膜.问下.在溅射的时候如何准确的控制膜厚.我们公司的镀膜机是比较真空溅射镀膜透光率总是不均匀,一般都是上高下低,换了一套新的磁铁还是老样子.我们怀疑是不是抽气这方面有问题. 真空溅射镀膜机的加热部分叫什么名字真空溅射镀膜机器可放几种靶材? 能不能有比绝对零度-273.15度更低的温度呢? 您好,我是一个新手,请问一下溅射镀膜和蒸发镀膜有什么区别. 真空蒸镀与溅射镀膜优缺点